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PVD-DLC镀膜机
PVD-DLC镀膜机
      多弧-磁控溅射离子镀膜机是一种多功能、多用途的镀膜设备。它集电弧离子镀膜和磁控溅射镀膜于一体,既可镀制Au、Cu、Al、Cr、Ni不锈钢等高温、低温耐蚀膜、装饰保护膜,又可镀制TiN、TiC等超硬膜。在机械、轻工、电子、国防等领域有着广泛的用途。

      该设备具有操作方便,装载量大,工作周期短,生产率高等优点,适合工业化批量生产。





 技术指标
    * 真空室尺寸:φ800×900
    * 结构特点:立式前开门,配有观察窗
    * 极限真空度:5×10-4Pa
    * 空恢时间:大气抽到6.7×10-3Pa≤20min
    * 压升率:≤0.5Pa/h
    * 使用温度:最高温度500℃
    * 转架:1、可拉出式复合转架,齿轮传动,配备装卸车;
                2、固定转架
    * 冷却方式:夹套水冷、环槽水冷
    * 进气控制:4路(混气后分4路均匀供气)
    * 气体离子源:圆形霍尔离子源
    * Q系列PLC,15寸触摸手动-自动控制系统。
 主要配置
    * 分子泵:TYFB3600分子泵,1台
    * 预抽泵:直联泵TRP-90,1台
    * 罗茨泵:ZJP-150,1台
    * 维持泵:直联泵TRP-24,1台
    * 阴极溅射源:1、弧源数量:4套(φ155大弧源电磁线圈)
                          2、中频数量:2-4套
    * 离子源数量:2-3套
    * 转架数量:1-2套
    * 控制:PLC/触摸屏控制
    * 偏压:30KW
    * 弧电源:250A
    * 主要膜层:TiN   AITiN   TiSIN   TiCN   ALCrN   CrN   DLC(选配)

数据提供:    
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刘经理:
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